技術(shù)編號：11912893
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種拋光頭機構(gòu)，尤其是一種用于對拋光過程材料的去除率實現(xiàn)有效控制的磁性復(fù)合流體集群式拋光頭機構(gòu)。背景技術(shù)隨著航空航天、電子、通信、光學(xué)等領(lǐng)域的發(fā)展，多個領(lǐng)域?qū)鈱W(xué)玻璃元件表面拋光精度要求日益提高。但傳統(tǒng)光學(xué)玻璃元件的超精密制造仍然存在一些問題，超精密磨削和車削工藝能夠達到很高的形狀精度，但是表面質(zhì)量和亞表面損傷難以滿足技術(shù)要求。磁性復(fù)合流體拋光，作為一種新型納米級超精密加工技術(shù)，具有拋光過程可控、加工后光學(xué)表面面形精度高、不產(chǎn)生亞表面損傷、拋光頭尺寸可控可變、可實現(xiàn)非球面光學(xué)元件中頻誤...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。