技術(shù)編號(hào)：11909410
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及測(cè)繪裝置領(lǐng)域，具體涉及一種測(cè)繪儀支架。背景技術(shù)測(cè)繪儀是地質(zhì)勘測(cè)、土建施工等工作的常用器械，工作人員在使用時(shí)常需攜帶測(cè)繪儀在戶外活動(dòng)，并且常常需要移動(dòng)測(cè)繪儀的位置進(jìn)行多點(diǎn)測(cè)繪。測(cè)繪儀在使用時(shí)一般放置在測(cè)繪儀支架上，傳統(tǒng)的測(cè)繪儀支架在使用時(shí)存在以下缺陷：一是對(duì)測(cè)繪儀支架支撐位置的平整度有要求，如地面坑洼不平則很難設(shè)置好測(cè)繪儀的觀測(cè)角度；其次，由于測(cè)繪儀的安裝設(shè)置較為復(fù)雜，特別是水平面的校準(zhǔn)較為復(fù)雜，在需要多次移動(dòng)測(cè)繪時(shí)，每次都需要進(jìn)行水平校準(zhǔn)，測(cè)繪操作較為復(fù)雜；第三，傳統(tǒng)測(cè)繪儀支架體積...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。