技術編號：11906810
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及法蘭技術領域，特別是涉及一種具有冷卻回路的密封法蘭。背景技術目前，一些設備通常采用密封法蘭配合配件來進行氣體或者液體的密封。例如，氫化物氣相外延(HVPE，HydrideVaporPhaseEpitaxy)設備，該設備為化合物生長工藝設備，主要用于在高溫環(huán)境下通過如H2、HCl等氫化物氣體，使襯底表面外延生長一層如GaAs、GaN等的厚膜或晶體。由于H2、HCl等氫化物氣體都是危險氣體，需要通過密封法蘭配合密封圈將這些危險氣體密封在HVPE設備的石英管中，一旦泄露，將造成嚴重后果。然而...
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