技術(shù)編號:11875170
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。加工腔室的逆流混合器相關(guān)申請的交叉引用本申請要求2015年11月9日提交的的美國臨時申請62/253,016的權(quán)益,其通過引用納入本文。發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明一般涉及半導(dǎo)體加工工具。更具體的,本發(fā)明涉及從小流動管向大流動管移動的氣體的低壓混合器。發(fā)明背景一些清潔加工或其他低真空加工需要在等離子源(PS)和晶片加工室之間混合氣體/蒸氣。例如NF3/NH3加工可用于從Si中移除SiO2。在該加工中,Ar在注射入頂部等離子源之前與NF3混合。在PS中生產(chǎn)等離子,其除了對Ar/NF3混合物進(jìn)行一些電離之外還生產(chǎn)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。