技術(shù)編號:11870167
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光電子制造技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種氮化鎵基發(fā)光二極管的外延片及制備方法。背景技術(shù)LED(LightEmittingDiode,發(fā)光二極管)具有體積小、壽命長、功耗低等優(yōu)點,目前被廣泛應(yīng)用于汽車信號燈、交通信號燈、顯示屏以及照明設(shè)備。在發(fā)光二極管的外延片的生長過程中,常常會由于晶格失配而出現(xiàn)應(yīng)力,導致晶體質(zhì)量變差,抗靜電性下降,發(fā)光效率降低。為了提高外延片的抗靜電性和發(fā)光效率,通常會在生長有源層之前生長一層InGaN淺量子阱,以釋放應(yīng)力。但是InGaN淺量子阱只能減小與有源層之間的晶格失配...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。