技術(shù)編號(hào)：11850091
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。包含Al-Te-Cu-Zr合金的濺射靶及其制造方法技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及包含Al-Te-Cu-Zr合金的濺射靶及其制造方法，特別是用于形成作為電阻變化型材料的包含Al-Te-Cu-Zr合金的薄膜的Al-Te-Cu-Zr合金濺射靶及其制造方法。背景技術(shù)近年來，使用利用電阻變化來記錄信息的包含Te-Al基材料或Te-Zr基材料的薄膜作為電阻變化型記錄材料。作為形成包含這些材料的薄膜的方法，通常使用真空蒸鍍法、濺射法等一般被稱為物理蒸鍍法的方法來進(jìn)行。特別是從操作性、成膜的穩(wěn)定性考慮，多使用磁控濺射法來形...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。