技術(shù)編號：11834321
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型屬于氟化工和電子工業(yè)氣體領(lǐng)域領(lǐng)域，具體涉及一種合成碳酰氟的裝置。背景技術(shù)碳酰氟(COF2)廣泛用于半導體制造過程中的清潔氣體和刻蝕氣體，由于其具有非常低的全球變暖潛能(GWP)，故逐步替代了全氟化碳(PFC)和三氟化氮(NF3)等常規(guī)的清潔氣體和刻蝕氣體，另外碳酰氟在液晶制造領(lǐng)域的應用也有報道。目前，按照反應原料種類分類，碳酰氟的合成方法主要分成四種。1:一氧化碳或二氧化碳與氟氣或二氟化銀反應日本專利特開平11-116216號公報、日本專利特開2003-267712號公報、日本專利特許...
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