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用于檢查半導(dǎo)體晶片的X光檢查設(shè)備的制作方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:11812733

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本發(fā)明涉及x光檢查設(shè)備,并且具體地涉及一種適合在處理半導(dǎo)體晶片以生產(chǎn)集成電路期間檢查半導(dǎo)體晶片的設(shè)備和方法。然而,本發(fā)明的多方面主要涉及x光檢查系統(tǒng),并且能夠被應(yīng)用于用于檢查任何類型的樣品的系統(tǒng)。背景技術(shù)制作集成電路是一種光刻和化學(xué)處理步驟的多步驟序列,在其間電子電路逐漸地在由純半導(dǎo)體,通常為硅制成的晶片上產(chǎn)生。從開始到結(jié)束,整個制造過程耗費六至八周,并且在被稱為制作工廠的高度專業(yè)化設(shè)施中執(zhí)行。制造廠需要許多昂貴的裝置以起作用。估計建造新制造廠的成本超過10億美元,高達30至40億美元也很常見。...
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