技術編號：11811051
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于真空鍍膜技術領域，具體涉及一種智能源擋板系統(tǒng)及其制備硬質(zhì)涂層的方法。背景技術影響真空鍍膜性能的因素(從陰極電弧靶源CAE角度考慮)：(1)氣體的釋放任何材料表面在空氣中都會吸附氣體，在真空條件下開始逐步釋放。真空室預熱高溫可以加速真空室內(nèi)所有表面上吸附氣體的釋放。但是由于靶源都配有增強的水冷條件，靶材溫度較低，吸附的氣體無法加速釋放，從而影響了獲得高的本底真空和低的壓升率，造成真空室內(nèi)殘余氣體(主要是水汽)對鍍制氮化物涂層的質(zhì)量產(chǎn)生顯著的負面影響。(2)CAE靶面的污染CAE靶面的污染...
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