技術(shù)編號：11806448
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于特種玻璃領(lǐng)域，尤其涉及一種導(dǎo)電玻璃。背景技術(shù)磁控濺射工藝制備AZO薄膜(摻鋁的氧化鋅)，由于其重復(fù)性好、允許低溫沉積、沉積速率高、附著性好、沉積參數(shù)容易控制等優(yōu)點(diǎn)應(yīng)用得最為普遍。對于制備具有絨面結(jié)構(gòu)的AZO薄膜，目前主流的制備方法主要是利用AZO薄膜的表面可刻蝕性，先采用磁控濺射技術(shù)，在溫度大于200℃的條件下，制備出電學(xué)性能和光學(xué)性能都很好的AZO薄膜，然后再對其進(jìn)行表面刻蝕，達(dá)到表面織構(gòu)化。其中以濕法刻蝕技術(shù)最為成熟。濕法刻蝕一般采用體積分?jǐn)?shù)為0.5％的稀鹽酸，刻蝕時間一般10～3...
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