技術(shù)編號：11768045
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種自動(dòng)換靶裝置的使用方法。背景技術(shù)薄膜技術(shù)在工業(yè)上得到廣泛的應(yīng)用，特別是在電子材料、磁性材料和元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有極為重要的地位，因此，制備各種性能的薄膜的方法在最近幾十年中也得到了飛躍發(fā)展?，F(xiàn)有的電子束蒸發(fā)設(shè)備一般使用時(shí)用完一個(gè)靶材需要打開真空鍍膜腔室進(jìn)行靶材的更換，而在大量使中則需要頻繁更換靶材，由于真空腔室的開啟和抽真空需要一定的時(shí)間，會(huì)造成時(shí)間成本增加，這樣的話會(huì)影響蒸鍍的效率，不利于大批量的生產(chǎn)；且分子泵頻繁的使用，會(huì)減少其壽命；同時(shí)經(jīng)常打開真空腔室...
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