技術編號：11762118
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及硅片生產(chǎn)設備技術領域，尤其是涉及一種硅片去水膜設備。背景技術在非擴散面加上水膜是防止硅片過刻的重要途徑，而在實際生產(chǎn)過程中，硅片上的水膜會溢出在刻蝕槽造成刻蝕槽內(nèi)酸性溶液濃度變小，為了達到要求的濃度，要不斷的增加供酸量，無形中增加了生產(chǎn)成本，通常會將硅片表面多余的水去除，以減少水膜溢出而降低蝕刻液的濃度?，F(xiàn)有去水膜裝置通常都是由勻水輥將多余的水去除，而水膜也是由水構成，使得勻水輥在經(jīng)過水膜一側時，由于水膜外表層具有一定的張力，在勻水輥的擠壓下水會流向另一側，而水膜張力使得水并沒有減...
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