技術(shù)編號(hào):11732986
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種對(duì)粉體進(jìn)行化學(xué)氣相包覆的設(shè)備,特別是涉及一種可連續(xù)生產(chǎn)的粉體微波化學(xué)氣相包覆設(shè)備。背景技術(shù)化學(xué)氣相沉積是反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)物質(zhì)沉積在固態(tài)基體表面,制備固體材料的工藝技術(shù)?;瘜W(xué)氣相沉積屬于原子范疇的氣態(tài)傳質(zhì)過(guò)程,主要用于制備薄膜材料。該過(guò)程是在常壓或者真空條件下,采用等離子和激光輔助技術(shù)促進(jìn)化學(xué)反應(yīng),使沉積過(guò)程在較低的溫度下進(jìn)行。涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而變化,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層,并且可以方便地控制厚度和密度。其突出的特點(diǎn)是繞鍍性好,...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。