技術編號：11688036
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種控制系統(tǒng)，具體是指一種晶振探頭用控制系統(tǒng)。背景技術蒸發(fā)鍍膜機在對基片鍍膜時，為了能確?；兡ず穸鹊臏蚀_性，人們多采用晶振探頭來對靶材的蒸發(fā)量進行檢測，通過對靶材的蒸發(fā)量的控制來實現(xiàn)對基片鍍膜后度的控制，從而使基片鍍膜厚度更準確。然而，現(xiàn)有的晶振探頭用控制系統(tǒng)不能對晶振探頭的晶振片的轉換和振蕩頻率進行控制，導致晶振探頭無法準確的對靶材的蒸發(fā)量進行檢測，致使基片的鍍膜厚度不穩(wěn)定，從而嚴重的影響了基片的鍍膜質量。發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有的晶振探頭用控制系統(tǒng)不能對晶振探頭的晶振片...
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