技術(shù)編號：11672952
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請涉及材料技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種真空鍍膜設(shè)備與單質(zhì)薄膜的鍍制方法。背景技術(shù)活潑單質(zhì)薄膜，尤其是活潑金屬單質(zhì)薄膜，如Ca單質(zhì)薄膜、Al單質(zhì)薄膜等，與空氣中的氣體接觸后很容易發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在單質(zhì)薄膜的表面生成其他化合物，使得單質(zhì)薄膜中有雜質(zhì)，進而影響其性能。為避免制作好的單質(zhì)薄膜與大氣中的氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，通常會將其放置在惰性氣體氣氛的環(huán)境中，避免單質(zhì)薄膜與大氣中的氣體接觸，但是，真空箱體充氣以及單質(zhì)薄膜轉(zhuǎn)移的過程中仍然會和大氣接觸并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，單質(zhì)薄膜表面存在化合物，造成單質(zhì)薄膜的失效...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。