技術(shù)編號：11652612
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種同步實現(xiàn)天線方向圖與散射像測試的裝置及方法。背景技術(shù)天線作為現(xiàn)代武器裝備的重要部件，其散射特性直接影響整機隱身性能。對于隱身裝備用天線，RCS是其一個重要指標，天線散射像即散射中心分布是衡量天線RCS與驗證天線隱身設(shè)計的重要技術(shù)手段，在隱身天線研發(fā)、生產(chǎn)階段，必然離不開方向圖與散射成像測試。常用方向圖、散射成像測試方法有遠場、近場、緊縮場等，其中因具有測試距離近、場地要求低、保密性好、測試精度高等優(yōu)點，平面近場測試技術(shù)已經(jīng)成為主要測試手段。現(xiàn)有天線方向圖平面近場測試裝置如圖1所示，...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。