技術編號：11634852
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。所公開的主題涉及對光學源中的干擾的主動拒絕。背景技術光刻是將半導體電路裝置圖案化在諸如硅晶片等的襯底上所采用的工藝。光刻光源提供用于使晶片上的光致抗蝕劑曝光的深紫外(DUV)光。用于光刻的DUV光通過準分子光源生成。往往，光源是激光源并且脈沖光束是脈沖激光束。光束被傳遞通過光束傳遞單元、通過掩模版(或掩模)被濾光并接著被投影到準備好的硅晶片上。以該方式，將芯片設計圖案化到光致抗蝕劑上，接著對其進行蝕刻和清潔，并且接著重復該過程。發(fā)明內(nèi)容在一個總體方面中，一種補償光學源中的干擾的方法包括：接收從光...
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