技術(shù)編號(hào)：11628981
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及低溫等離子體技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種基于微等離子體噴槍產(chǎn)生大尺度大氣壓輝光放電的裝置及方法。背景技術(shù)大氣壓輝光放電具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、不需要昂貴的真空裝置等優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)其產(chǎn)生的等離子體氣體溫度低、活性粒子濃度高、放電均勻，因而被廣泛應(yīng)用于殺菌消毒、臭氧合成、污水處理和材料表面改性等領(lǐng)域。在國內(nèi)外，關(guān)于輝光放電等離子體技術(shù)有了一定的研究和利用。如專利文件CN1694324A中提出了一種利用與高頻電容型介質(zhì)阻擋放電裝置無電路聯(lián)系的外加等離子體源為放電空間注入初始等離子體，增加放電空間的電...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。