技術編號：11618934
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種光學元件損傷檢測方法，尤其是涉及一種基于原位探測的納米尺度初始激光損傷檢測方法及系統(tǒng)。背景技術光學元件是光學系統(tǒng)中必不可少的基本元素，在激光加工、激光武器以及高功率激光系統(tǒng)等領域有著廣泛的應用。隨著激光器輸出能量的不斷提高，光學元件的激光損傷已成為了限制激光技術向高能量、高功率方向發(fā)展的薄弱環(huán)節(jié)，制約著強激光技術的進一步發(fā)展。為了深入分析光學元件的損傷性能和損傷機制，準確評價光學元件的抗激光損傷能力，需要不斷地發(fā)展和完善激光損傷的測試技術。目前，國內(nèi)外對光學元件的激光損傷性能和損傷...
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該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。