技術(shù)編號：11577988
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光場光強分布測量，特別是一種采用多探測器的光場光強分布測量方法。背景技術(shù)光場光強分布是指在光場面，光功率密度或光照度在二維坐標(biāo)上的分布情況，也稱為光能量分布、光功率密度分布、光照度分布、輻照度分布等，在本發(fā)明中統(tǒng)稱作光強分布。光場光強分布檢測有著廣泛的應(yīng)用，如，光伏領(lǐng)域的太陽模擬器，需要通過檢測空間輻射光強均勻性進(jìn)行產(chǎn)品分級，A類太陽模擬器的光場光強均勻性需要在2％以內(nèi)；對光束質(zhì)量進(jìn)行分析時，需要對光束截面光場的光強分布進(jìn)行檢測；在投影光刻機系統(tǒng)，需要對掩模面和硅片面照明光場的光強分布...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。