技術(shù)編號：11544375
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種套刻精度補正的優(yōu)化方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)通常采用先進制程控制(Advancedprocesscontrol，APC)來避免套刻誤差(overlayerror)。套刻誤差是通過顯影后光學(xué)檢測來進行采集，并輸入值A(chǔ)PC系統(tǒng)，再由APC系統(tǒng)反饋該批次產(chǎn)品工藝控制的優(yōu)化設(shè)置。然而，現(xiàn)有的APC系統(tǒng)中，只是針對當(dāng)層的量測值進行補正，而忽略了第一層的實際曝光圖案與理論曝光圖案差異形成的套刻精度的影響，如圖1所示，第一層中，實際的曝光機臺(tool)之間的曝光圖案T1、T2與...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。