技術(shù)編號：11529953
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。熒光X射線分析裝置相關(guān)申請本發(fā)明要求申請日為2015年8月10日、申請?zhí)枮镴P特愿2015—157958號的申請的優(yōu)先權(quán)，通過參照，將其整體作為構(gòu)成本申請的一部分的內(nèi)容而引用。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種熒光X射線分析裝置，在該熒光X射線分析裝置中，對試樣照射一次X射線，該試樣通過將單層或多層的薄膜形成于基板上的方式形成或單獨地形成，根據(jù)所產(chǎn)生的二次X射線的測定強度，通過基本參數(shù)法，求出上述薄膜的組成和/或厚度的定量值。背景技術(shù)在熒光X射線分析中，在根據(jù)所分析的試樣的品種，適當選擇而設(shè)定應(yīng)測定的二次X...
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