技術(shù)編號：11525854
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。用于對插管的患者進行成像的設(shè)備和系統(tǒng)相關(guān)申請的交叉引用本申請要求2014年9月10日提交的美國專利申請?zhí)?4/482,635的優(yōu)先權(quán)，其通過引用完整地結(jié)合在本文中。技術(shù)領(lǐng)域本文所公開的主題涉及磁共振成像(MRI)，以及更具體來說涉及用于對插管的患者進行成像的梯度線圈。背景技術(shù)一般來說，使患者經(jīng)受MRI掃描的優(yōu)選位置是在磁膛中居中。但是，這在患者，例如新生兒或嬰兒被插管時可能是有挑戰(zhàn)性的。當(dāng)前，在對插管的新生兒患者進行成像時，患者必須定位在磁膛的等中心（iso-center）下面，以便容納插管設(shè)備...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。