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硅基電注入激光器及其制備方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:11522696

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本發(fā)明屬于光通信器件領(lǐng)域,更具體地涉及一種硅基電注入激光器及其制備方法。背景技術(shù)過去幾十年中,微電子技術(shù)發(fā)展迅猛,COMS器件的特征尺寸已降低到10nm以內(nèi)。然而伴隨著器件尺寸縮小到10nm下,量子效應(yīng)越加凸顯,器件性能越發(fā)難以控制,器件的集成度更大,器件結(jié)構(gòu)從二維向三維發(fā)展,工藝難度越來越高。因此,人們把延續(xù)“摩爾定律”即增強(qiáng)運(yùn)算或通信能力的希望寄托在光子學(xué)特別是光電集成上。目前硅基光子學(xué)已高度發(fā)展,波導(dǎo)、光放大器、光探測器、光調(diào)制器等光子器件都可實(shí)現(xiàn)成熟應(yīng)用,并集成在一起形成硅集成光子芯片。...
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