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一種利用磁場(chǎng)及激光對(duì)晶圓進(jìn)行研磨的系統(tǒng)及方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):11507285

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本發(fā)明屬于晶圓研磨技術(shù)領(lǐng)域,提供一種利用磁場(chǎng)控制研磨液中磁性納米顆粒對(duì)晶圓進(jìn)行面研磨后使用飛秒激光對(duì)晶圓進(jìn)行點(diǎn)研磨的系統(tǒng)及方法。背景技術(shù)晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。晶圓的原始材料是硅,而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經(jīng)由電弧爐提煉,鹽酸氯化,并經(jīng)蒸餾后,制成了高純度的多晶硅。再經(jīng)過(guò)照相制版,研磨,拋光,切片等程序,將多晶硅融解拉出單晶硅晶棒,然后切割成一片一片薄薄的晶圓...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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