技術(shù)編號(hào)：11507192
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及基板成膜領(lǐng)域，特別涉及物理濺射成膜裝置及方法。背景技術(shù)在薄膜晶體管(TFT)基板制作過程中，需要在玻璃基板上沉積Al、Mo、Ti、Cu等金屬膜以及ITO、IGZO等非金屬膜，該制程通常使用物理氣象沉積機(jī)(PVD)完成；PVD工作原理是利用電漿中的Ar離子，對(duì)靶材(target)進(jìn)行轟擊，濺射出靶材原子，轉(zhuǎn)移到玻璃基板表面完成膜層的沉積；機(jī)臺(tái)根據(jù)沉積膜層的需要安裝相應(yīng)的靶材，靶材隨著使用時(shí)間的延長(zhǎng)不斷被消耗，目前機(jī)臺(tái)上靶材消耗完畢無法及時(shí)發(fā)現(xiàn)，易發(fā)生靶材被擊穿的狀況，對(duì)背板和產(chǎn)品造成影響...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。