技術(shù)編號(hào)：11507168
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種非晶碳膜磁控濺射連續(xù)線，尤其是涉及一種用于高效制備燃料電池金屬雙極板非晶碳膜磁控濺射連續(xù)線。背景技術(shù)真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、交通、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。磁控濺射作為真空鍍膜技術(shù)中的一種，通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率，實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷濺射，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。一般的濺射法可被用于...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。