技術編號:11500951
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及量子點及其制備方法,特別涉及生長在GaAs襯底上的InGaAs量子點。背景技術隨著制備高質量自組織量子點技術的發(fā)展,半導體量子點在量子光學,單光子光源,量子通信等方面的應用研究越來越引起人們的興趣。量子點是一種零維材料,其具有類似原子的分立能級,同時在三維方向上實現(xiàn)了對載流子的限制,導致載流子能量在三個維度上量子化而出現(xiàn)分立能級,呈現(xiàn)出某些類似原子的殼層結構能級特性。量子點的種種新奇性質使其在許多領域具有廣闊的應用前景,比如量子點單光子光源,量子點中間帶多結太陽電池等。一個穩(wěn)定、高...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。