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用于去除含有背部晶圓金屬化層的光刻膠剝離液的制造方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):11475110

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本發(fā)明涉及化學(xué)品制劑領(lǐng)域,具體是一種用于去除LED和半導(dǎo)體器件等微電子基底光刻膠殘余物的光刻膠剝離液,此光刻膠剝離液含有的腐蝕抑制劑和其它助劑成分會(huì)產(chǎn)生協(xié)同效應(yīng),在去除表面光刻膠殘余物的同時(shí),能有效的保護(hù)晶圓基底以及晶圓背部金屬化層不受腐蝕。背景技術(shù)在通常的LED和半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中,需要光刻膠作為抗掩模進(jìn)行圖案化轉(zhuǎn)移,經(jīng)過(guò)曝光、顯影、蝕刻等光刻工藝并完成圖案化轉(zhuǎn)移之后,需要去除光刻膠殘余物,以便進(jìn)行下一道工藝。在這個(gè)過(guò)程中要求完全除去光刻膠殘余物,同時(shí)不能腐蝕任何基材。當(dāng)前,在功率半導(dǎo)體器件...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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