技術(shù)編號：11448672
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。校準(zhǔn)CVD或PVD反應(yīng)器的高溫計(jì)裝置的方法用于沉積半導(dǎo)體層如III-IV族半導(dǎo)體層的裝置，具有：反應(yīng)器殼體；布置在該反應(yīng)器殼體中的基座，例如由石墨或經(jīng)涂覆的石墨構(gòu)成；布置在該基座下方的加熱裝置，例如紅外線加熱裝置、射頻加熱裝置或燈管加熱裝置；進(jìn)氣機(jī)構(gòu)，其布置在所述基座上方并且用該進(jìn)氣機(jī)構(gòu)將工藝氣體導(dǎo)入處理腔室；以及一個(gè)或多個(gè)溫敏傳感器，以確定擱置在基座上的基板的表面溫度，并將該表面溫度提供給調(diào)節(jié)裝置，用所述調(diào)節(jié)裝置可這樣來調(diào)節(jié)所述加熱裝置，使得所述表面溫度保持為預(yù)定值。這類裝置例如描述于DE10...
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