技術(shù)編號：11405999
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于基于集成成像的光場顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及光場顯示系統(tǒng)中透鏡陣列的校準方法。背景技術(shù)集成成像包括三維場景的記錄與再現(xiàn)兩個過程。記錄過程中，透鏡陣列和記錄介質(zhì)(如電荷耦合器件(CCD)、互補金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)或膠片)對三維場景發(fā)出光線的方向信息和亮度信息進行采樣，得到二維單元圖像陣列，單元圖像陣列中的每個單元圖像都是其對應(yīng)的透鏡對三維場景成的像，包含著三維場景的不同視差信息。顯示過程中，記錄的二維單元圖像陣列顯示在二維顯示面板上，如液晶顯示面板(LCD)，單元圖像發(fā)出的光線通過透...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。