技術(shù)編號：11388091
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明主要涉及離子注入技術(shù)領(lǐng)域，特指一種用于高能離子注入機的射頻加速調(diào)諧裝置及方法。背景技術(shù)早在20世紀60年代，離子注入技術(shù)就應(yīng)用在半導體器件的生產(chǎn)上。離子注入技術(shù)就是將某種元素的原子進行電離，并使其離子在電場中加速，獲得較高的速度后植入固體材料的表面，以改變這種材料表面的物理或者化學性能的一種技術(shù)。離子注入機的離子加速方式有靜電場加速和射頻加速方式。靜電場加速方式實現(xiàn)起來簡單，但需要足夠的絕緣空間，當能量越高，需要的空間越大，設(shè)備的體積也會越來越大。因此，中低能離子注入機一般采用靜電場加速方...
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