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磁控濺射鍍膜源及其裝置的制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):11311364

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磁控濺射鍍膜源及其裝置【技術(shù)領(lǐng)域】本實(shí)用新型涉及材料沉積技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及磁控濺射鍍膜源及其裝置?!颈尘凹夹g(shù)】磁控濺射裝置作為一種鍍膜裝置已被廣泛應(yīng)用于各種電子、裝飾等鍍膜領(lǐng)域,其具有鍍膜速率快、無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。目前在半導(dǎo)體、平板顯示屏、傳感器等制造業(yè)中使用的磁控濺射鍍膜源主要有平面型和柱狀旋轉(zhuǎn)型。在通常的鍍膜過(guò)程中,等離子區(qū)會(huì)產(chǎn)生過(guò)熱電子或其它負(fù)離子,平面型和柱狀旋轉(zhuǎn)型磁控濺射鍍膜源常會(huì)使過(guò)熱電子或其它負(fù)離子轟擊到被鍍工件的表面,使得工件和所鍍薄膜的工藝溫度過(guò)高。在實(shí)際應(yīng)用中,有較多種類(lèi)的工件材...
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