技術(shù)編號：11271305
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光學(xué)薄膜的制備方法，具體為一種一步拉伸制備太陽光高阻隔光學(xué)薄膜的方法；屬于光學(xué)材料技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)將具有功能性的無機(jī)納米材料和有機(jī)高分子材料均勻復(fù)合一直是復(fù)合材料領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。因為一般的有機(jī)高分子材料具有生產(chǎn)簡單、易加工成型、透明度高、成本低等優(yōu)點(diǎn)，但也有耐候性差、功能性弱等缺點(diǎn)；而無機(jī)材料具有耐溫好、多功能(防靜電、抗紫外、防污、防靜電)等優(yōu)點(diǎn)，但缺點(diǎn)是不容易加工成型，特別是非幾何規(guī)則難以加工的缺點(diǎn)制約其在日常生活中的大規(guī)模使用。因此，單一材料制約了有機(jī)材料和無機(jī)材料在產(chǎn)業(yè)升...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。