技術(shù)編號：11262654
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及離子注入技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種提升注入離子平行性的裝置及其方法。背景技術(shù)離子注入機是集成電路制造工序中的關(guān)鍵設(shè)備，離子注入就是將所要注入的元素進行電離，并將正離子分離和加速，形成具有數(shù)萬電子伏特的高能離子流，轟擊工件表面，離子因動能很大，被打入表層內(nèi)，其電荷被中和，成為置換原子或晶格間的填隙原子，被留于表層中，使材料的化學(xué)成分、結(jié)構(gòu)、性能產(chǎn)生變化。離子注入相比于常規(guī)熱摻雜工藝，可對注入劑量、注入角度、注入深度、橫向擴散等方面進行精確的控制。因此，離子注入機廣泛用于摻雜工藝中，已成為集成...
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