技術(shù)編號：11223292
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及到高分子合成領(lǐng)域，尤其涉及一種降冰片烯類、2-(全氟丁基)乙基甲基丙烯酸酯和2,3,4,5,6-五氟苯乙烯三元共聚催化劑以及三元共聚方法。背景技術(shù)聚降冰片烯是一種特殊的聚合物，具有優(yōu)良的力學(xué)性能、耐熱性、在有機溶劑中的可溶性及透明性，可將聚降冰片烯用于157nm紫外光光刻。聚降冰片烯的主要缺點是脆性差、粘性差、分子量低。隨著微電子工業(yè)的發(fā)展需要尺寸更小的成分，對適用于線寬為1.3μm及以下線寬的曝光技術(shù)，可選擇157nmF2光刻技術(shù)，這些技術(shù)涉及光刻工藝的各個方面。這對于光刻材料、光刻...
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