技術(shù)編號(hào)：11152912
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備，尤其涉及在光掩模的制造蝕刻工藝中避免在蝕刻液輸送管路中產(chǎn)生結(jié)晶物的方法及其管路結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)在光掩模的制造中蝕刻工藝是一個(gè)重要的工藝流程，蝕刻工藝中蝕刻液的主要成分在PH值改變時(shí)溶解度會(huì)降低，從而析出晶體。在現(xiàn)有的蝕刻工藝中,蝕刻設(shè)備的蝕刻液輸送管路結(jié)構(gòu)如圖1所示，蝕刻開(kāi)始前從閥門20出口到噴頭30的蝕刻液輸送管路10里充滿了純水；蝕刻開(kāi)始后，蝕刻液將經(jīng)由閥門20的A口至C口，通過(guò)蝕刻液輸送管路10到達(dá)噴頭30，并替代蝕刻液輸送...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。