技術(shù)編號(hào)：1115124
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于輻射成像探測(cè)技術(shù)范圍，特別涉及一種正電子掃描成像裝置。背景技術(shù) 目前在正電子掃描成像(PET)輻射成像領(lǐng)域里，普遍采用的高位置分辨面陣探測(cè)器，通常為半導(dǎo)體或晶體位置靈敏探測(cè)器。這些探測(cè)器本身工藝和技術(shù)復(fù)雜、不易做成大面積探測(cè)器、配套電子學(xué)路數(shù)多且價(jià)格昂貴，這些因素都制約了它們?cè)诖竺娣e、大立體角PET中的應(yīng)用。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種正電子掃描成像裝置(PET)，這種裝置由一對(duì)或多對(duì)兩兩相對(duì)設(shè)置的二維面陣位置靈敏輻射探測(cè)器A、A’、B、B’…...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。