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磁極輔助非平衡磁控濺射裝置的制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):11147033

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本發(fā)明屬于致密氧化物薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種磁極輔助非平衡磁控濺射裝置。背景技術(shù)電解質(zhì)薄膜是能源轉(zhuǎn)換器件中重要的組成部分。目前,電解質(zhì)薄膜普遍采用傳統(tǒng)射頻濺射制備的方法,但制備出的電解質(zhì)膜無(wú)法達(dá)到致密結(jié)構(gòu)的要求,這極大限制了能源轉(zhuǎn)換器件的研究及發(fā)展。傳統(tǒng)的射頻濺射裝置采用平面平衡磁控電極,這種方式中沉積材料的能量較低,在薄膜增厚的界面上,沉積原子或原子團(tuán)不能充分?jǐn)U散,進(jìn)而導(dǎo)致所沉積的薄膜在微觀結(jié)構(gòu)上有許多的孔隙,且厚度不均勻,不能滿足對(duì)利用濺射裝置制備高致密度電解質(zhì)膜的需求。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明...
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