技術(shù)編號：11103125
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及顯示器技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種OLED器件及其制作方法。背景技術(shù)隨著OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有機(jī)發(fā)光顯示)技術(shù)的發(fā)展，用戶對OLED色彩和灰度的顯示要求越來越高。目前通過RGBside-by-side制作的全彩AMOLED的過程中，先用CommonMask(CM)形成HIL(空穴注入)層和HTL(空穴傳輸)層，再形成EML(發(fā)光)層，最后形成ETL(電子傳輸)層、EIL(電子注入)層和透明陰極。對于用CM制備HIL和HTL層的器件在高灰階顯示時(shí)，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。