技術編號：10967269
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。準分子激光器是目前大規(guī)模集成電路芯片制造業(yè)所采用的主流曝光光源。193nm高能量、窄線寬準分子激光器是生產(chǎn)線上廣泛采用的光刻用準分子激光器。圖1為光刻用193nm準分子激光器基本結構示意圖，主要包含種子腔(MO腔)、放大腔(PA腔)、線寬壓窄單元I (LNM)、輸出耦合鏡2(0C)、M0腔在線檢測單元3(LAM)、M0腔光路轉置單元4、PA腔光路轉置單元5、PA腔光路反轉單元6、PA腔在線檢測單元7(BAM)、脈沖展寬單元8 (OPus)等組成。MO腔與P...
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