技術(shù)編號：10920348
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在工業(yè)生產(chǎn)中顆粒大小與產(chǎn)品有著直接的關(guān)系，對顆粒粒度的檢測直接關(guān)系到最終產(chǎn)品質(zhì)量。目前激光粒度儀大多數(shù)是基于Mie散射理論?；驹硎钱?dāng)激光入射到被測顆粒時，顆粒會散射入射激光，其散射光能的空間分布與顆粒的大小有關(guān)，測量其散射光能的空間分布，然后應(yīng)用光散射理論和反演算法可以獲得被測顆粒的粒度分布。中國專利授權(quán)公告號CN102109454B，授權(quán)公布日2013年4月3日，名稱為“同時測量多顆粒的動態(tài)光散射納米顆粒粒度的方法”的發(fā)明專利，提供了一種測試顆粒粒度...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。