技術編號：10680512
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。多弧離子鍍是一種設有多個可同時蒸發(fā)的陰極弧蒸發(fā)源的物理氣相沉積技術，具有沉積速度快、膜層組織致密、附著力強、均勻性好等顯著特點。該技術適用于各種硬質(zhì)反應膜的制備，并在氮化物硬質(zhì)反應膜的制備方面獲得成功應用。對于單層、雙層和梯度成分變化的以鈦為基的氮化物硬質(zhì)反應膜而言，一般存在以下缺點1、膜層組織中容易出現(xiàn)明顯的具有成分差別的界面，導致膜層成分的非連續(xù)變化;2、容易出現(xiàn)膜層硬度與膜層附著力之間的矛盾，即硬度與附著力難以同時滿足;3、容易在膜層中產(chǎn)生較大的內(nèi)應...
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