技術(shù)編號(hào)：10565739
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，電子產(chǎn)品的尺寸越來越小，而傳統(tǒng)器件的存儲(chǔ)密度和運(yùn)行速度越來越接近其物理極限，這是因?yàn)閭鹘y(tǒng)的電子器件以電子的電荷作為信息載體，不考慮電子自旋。自旋電子學(xué)是研究電子的自旋極化輸運(yùn)特性而開發(fā)的電子器件為主要內(nèi)容的一門學(xué)科，作為一門新興學(xué)科，其發(fā)展還面臨著諸多挑戰(zhàn)。四氧化三鐵(Fe3O4)是一種重要的3d過渡金屬化合物，其電子的自旋極化率很高，是自旋電子學(xué)方面有可能實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的材料之一。常見的四氧化三鐵薄膜的生長方法包括有脈沖激光沉積法...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。