技術(shù)編號：10532571
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，市場對于更精細(xì)、大產(chǎn)能的光刻機(jī)產(chǎn)品的需求也越 來越迫切。提高光刻機(jī)產(chǎn)能的其中一個有效途徑就是擴(kuò)大曝光視場。但是受高均勻性玻璃 材料尺寸限制，單個物鏡無法在高精度成像的前提下無限擴(kuò)大曝光視場。而拼接式物鏡可 以很好的解決這個問題。其中，有一種拼接式物鏡是由多個+IX的子物鏡(組)拼接而成，理 論上可以實現(xiàn)視場的無限擴(kuò)大。但在拼接之前，每個子物鏡(組）需要事先進(jìn)行離線性能調(diào) 試。區(qū)別于單個投影物鏡，最終每個子物鏡(組）要以下像質(zhì)要求...
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