技術(shù)編號：10502717
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。國內(nèi)現(xiàn)有的用于一氧化硅生產(chǎn)的真空爐，均是作坊式生產(chǎn)爐，難以生產(chǎn)高品質(zhì)的穩(wěn)定一氧化硅材料，生產(chǎn)的一氧化硅不僅質(zhì)量難以保證，而且產(chǎn)量小、能耗高，不能滿足現(xiàn)代化生產(chǎn)的需求。如專利CN2451567Y中提到的用于生產(chǎn)一氧化硅的真空爐，就存在這些缺陷，由于生產(chǎn)爐體積小，單爐生產(chǎn)量小，產(chǎn)量低，產(chǎn)品質(zhì)量不夠穩(wěn)定。另一方面，由于真空爐內(nèi)部體積小，爐子維修及操作均非常麻煩，還有因用鉬絲加熱，加熱體系落后，升溫速度慢，生產(chǎn)周期較長，對工業(yè)上的大量需求是一個致命的瓶頸。國際市場...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。