技術(shù)編號：10476025
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。以往，在例如用于制造半導(dǎo)體元件的光刻工序中，主要使用步進重復(fù)方式的縮小投影曝光裝置(所謂的步進機)、或者步進掃描方式的掃描型投影曝光裝置(所謂的掃描步進機(也稱為掃描機))等逐次移動型的投影曝光裝置。在這種投影曝光裝置中，設(shè)有能夠在二維平面內(nèi)移動的晶片載臺，通過固定在該晶片載臺上的晶片保持器，以真空吸附或靜電吸附等保持晶片。作為晶片保持器而存在各種類型，近年來，比較多地使用頂銷夾頭(pinchuck)式的晶片保持器。另外，在晶片載臺上，設(shè)有用于將晶片交付到...
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