技術(shù)編號(hào)：10170962
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。準(zhǔn)分子激光器可以輸出紫外波段的激光，并且具有非常窄的線寬和較大的能量，因此被廣泛用作光刻行業(yè)的光源。目前在光刻行業(yè)中應(yīng)用最廣泛的準(zhǔn)分子激光器為ArF和KrF準(zhǔn)分子激光器。準(zhǔn)分子激光器的工作氣體為稀有氣體鹵化物如ArF和KrF，是通過(guò)鹵素氣體F2和稀有氣體氬氣和氪氣反應(yīng)生成。準(zhǔn)分子激光器與其它氣體激光器不同，準(zhǔn)分子激光器需要比較頻繁的更換工作氣體，這是因?yàn)闇?zhǔn)分子激光器面臨著一個(gè)共同的問題就是準(zhǔn)分子激光器工作氣體的壽命隨著工作時(shí)間的增長(zhǎng)而衰減，這會(huì)導(dǎo)致激光器輸...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。