技術(shù)編號(hào):10160962
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目前,在低氣壓條件下可以產(chǎn)生大面積的非平衡冷等離子體,然而,由于低氣壓放電產(chǎn)生等離子體需要在真空腔中完成,一方面工件的加工過程不能連續(xù)進(jìn)行,被加工工件的尺寸受真空腔體積的限制;另一方面真空腔自身的建造和維護(hù)費(fèi)用昂貴,從而極大地限制了其應(yīng)用范圍。當(dāng)前在大氣壓條件下能夠產(chǎn)生的等離子體有兩種,一種是熱等離子體,其特征是氣體溫度往往很高,大約10000K量級(jí),主要用于等離子體噴涂、切割、焊接、廢物處理、材料表面加工等領(lǐng)域。由于熱等離子體溫度很高,因此,對(duì)于畏熱材料...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路,無完整電路圖,適合研究學(xué)習(xí)。