技術(shù)編號：100193
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明主要涉及物理汽相淀積，尤其涉及一種用于電弧汽相真空淀積涂層工藝的改進方法及設(shè)備。汽相淀積涂層工藝通常分為“化學(xué)”和“物理”汽相淀積。它們都有一個淀積或噴涂室，在其中，生成了涂層材料的等離子體，且等離子體投射向欲涂敷的基片。用于基片的涂層以及基片的形狀和材料極多，包括瓷器或陶器材料上的裝飾涂層，半導(dǎo)體片表面的電路連線以及切削工具和軸承表面的耐磨涂層。相似地，所用的涂層材料的物理特性和性能變化也很大，它包括導(dǎo)電涂層，半導(dǎo)體涂層以及形成電絕緣體的涂層?；瘜W(xué)汽相淀積通常涉及這樣一種汽相淀積工藝方法，其中，活性氣體分子...
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